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试想，国内光刻机远远落后于日本，现在还在使用接近式光刻技术却能够达到和日本半导体一般无二的良品率，可以想象晶圆纯度的提升有多牛掰。
但只有这个技术还不够。
毕竟提升晶圆纯度的方法是多样的，说不定哪天日本也掌握了其他方法提高晶圆纯度。
到那时候这专利也不再具有独一无二性。
咋办呢？
所以提高光刻机的性能是必备选项。
一口吃个大胖子不可能，再说现在的技术也远远没达到二十世纪末的标准。
极紫外光刻技术这个杀手锏与这个时代格格不入。
国内半导体设备想要发展，也得循序渐进的来。
事实上在七十年代，还是硅谷那边的半导体厂商在打架，日本半导体产业远没有那么强有力的竞争力。
马萨诸塞州的PerkinElmer率先搞出了投影式光刻机Micralign100，让芯片不再那么贵不可攀。
几年后，GCA公司又推出了步进式光刻机DSW4800。
从特曼教授寄来的杂志中不难看出，这台步进式光刻机有着更先进的制程，更高的良品率以及提供更高的芯片性能。
PE的市场被GCA蚕食。
而在亚洲，日本的尼康和佳能这两个光学行业的佼佼者也才刚刚入局半导体设备行业。
毕竟此时的光刻机技术还没有那么精细，光学行业的顶流用一星半点的技术，就足以追赶眼下的光刻机时髦。
一水之隔的中国，想要追上这脚步却并不轻松。
因为国内并没有太好的光化学公司。
昔日参与了国内第一台光刻机研发的上海光学仪器厂，做不出如此高精度的镜头。
而这，正是南雁给半导体研究中心的难题。
技术性的难题绝不是一星半点，更何况还有镜头这个致命缺陷在。
“别看现在GCA一家独大，等着吧，用不了几年，尼康就能后来居上。”
王主任也不是傻子，明白南雁的言外之意，“镜头，GCA用的是德国的蔡司镜头。”
且不说蔡司镜头的竞争力本就不如尼康。
尼康有自家技术支持，什么最好的镜头都可以往光刻机上用，GCA成吗？
现在光刻机对镜头要求越来越高。
解决不了镜头问题，GCA早晚会把这江山拱手让出。
美国市场太大了，再者说这本身就是个大熔炉似的国家，也不曾有什么民族而言。
民族大义不存在，在绝对的利益面前，资本家着眼的只有利益。
届时尼康抢走GCA的市场是板上钉钉的事。
只是眼下还不知道，尼康要花费多少时间，才能实现最终的霸占。
“市场变化，可真是……想象不到。”
“不过这也没什么用。
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