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三月的深圳，空气里飘着淡淡的花香与金属冷却液混合的气息。
唐静荷站在“星火工厂”
中试线首道工序前，看着机械臂将一片晶圆缓缓送入EUV光刻机曝光舱。
这是国产EUV首次用于真实芯片制造流程??目标是流片“追光四号”
SoC的首批工程样片。
他没有说话，只是静静盯着监控屏上跳动的数据：真空度稳定在10??Pa，激光激发频率每秒5万次，锡滴喷射误差控制在±0.28%，工件台同步精度维持在1.05nm以内。
“开始曝光。”
他轻声下令。
刹那间，幽蓝激光再度亮起，极紫外光穿过层层反射镜，在硅片表面刻画出比头发丝细千倍的电路图案。
整个过程持续了整整十七分钟。
当显影完成、电镜图像传回时，全场鸦雀无声??线条清晰如刀刻，关键尺寸均匀性达到**±0.7nm**，甚至优于ASML同代设备早期量产水平。
“我们……真的做出来了。”
一位年轻工程师喃喃道，声音颤抖。
唐静荷闭上眼，深吸一口气，再睁开时眸光如炬：“通知全厂，从今天起，EUV中试线正式转入连续流片模式。
我要看到一个月内完成一百片‘追光四号’的试产，良率达到65%以上。”
没有人质疑这个近乎苛刻的目标。
因为他们知道，这不仅是技术验证，更是一场对世界的宣示：中国不仅能造出EUV光刻机，还能用它稳定地产出先进芯片。
然而，胜利的余温尚未散去，风暴已悄然逼近。
三月中旬，美国国务院突然宣布启动“全球半导体联盟”
（GSA），联合荷兰、日本、韩国及中国台湾地区签署《先进技术共享协议》，承诺向成员国开放EUV维护支持、零部件供应与工程师培训通道，唯独将中国大陆排除在外。
更狠的是，美方以“国家安全”
为由，要求所有使用美国技术的企业不得为中国客户提供先进制程代工服务，违者将被踢出全球主流供应链体系。
一时间，台积电、三星纷纷表态“遵守规则”
，暂停与大陆客户的3nm及以上合作洽谈；ASML更是直接冻结了此前已签订单中的部分关键模块交付，理由是“最终用户审查未通过”
。
资本市场再次震荡。
港股科技股集体跳水，多家基金下调半导体产业链评级。
有分析师公开撰文称：“即便中国能做出一台EUV原型机，也无法形成闭环生态。
没有光刻胶、没有EDA、没有成熟工艺积累，一切都是空中楼阁。”
舆论压力如潮水般涌来。
社交媒体上，“自研无用论”
甚嚣尘上，甚至有人翻出十年前唐静荷在美国被驱逐的旧闻，嘲讽他是“幻想着靠情怀造芯片的疯子”
。
面对围剿，唐静荷依旧沉默。
直到某夜凌晨两点，他在内部办公系统上传了一份名为《致全体战友的一封信》的文档，仅限项目核心成员查看。
>各位：
>
>我知道最近很多人睡不着觉，我也一样。
>
>看着外面唱衰的声音，听着曾经并肩作战的朋友被迫退场的消息，心里不是滋味。
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