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第275章 旧王落幕新王登基求月票(第3页)

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唐静荷盯着故障代码看了十分钟,突然问:“有没有可能,是冷却液循环泵堵塞?”

技术人员愣住,随即翻查日志??果然发现流量曲线存在细微波动,此前被判定为“正常误差”

“拆。”

他说,“现在就拆。”

这是极其冒险的操作。

一旦误判,不仅浪费宝贵时间,还可能造成二次损坏。

但没人反对。

所有人都知道,此刻犹豫就是自杀。

三小时后,泵体拆下,内部果然积聚大量微米级颗粒杂质。

清洗更换后重启,温度回归正常。

次日清晨六点十七分,系统提示:“ReadyforExposure.”

那一刻,整个大厅鸦雀无声。

唐静荷站在控制台前,亲手点击了“开始曝光”

按钮。

激光束精准投射,掩模版图案被缩小四倍,清晰印刻在硅片表面。

显微镜下,线条边缘锐利,无毛刺、无偏移。

成功了。

第一片由中国人自主掌控流程的DUV曝光晶圆,在历经封锁、断供、围剿之后,诞生于深圳春夜的细雨之中。

现场爆发出震耳欲聋的欢呼。

有人哭,有人跳,有人跪地叩首。

一位老工程师颤抖着抚摸晶圆盒,喃喃道:“我干了一辈子半导体,今天才算真正摸到了中国的芯。”

唐静荷没有笑。

他只是默默掏出黑色笔记本,写下一行字:

>2010年5月19日,光出东方。

>此役之后,再无退路。

一个月后,“极光一号”

基带芯片完成首次国产流片。

虽然工艺节点仅为等效7nm,良率仅12%,但意义远超数据本身??它证明了,在没有台积电、没有美国技术支援的情况下,中国团队依然可以完成高端芯片的设计与制造闭环。

紧接着,好消息接踵而至。

6月初,中科院半导体所宣布突破“浸没式多重曝光”

关键技术,可在DUV基础上实现等效5nm逻辑密度;北方华创研制的国产刻蚀机通过验收,性能达到国际主流水平;盛美上海交付首台自主研发的SAPS兆声波清洗设备,彻底摆脱对日本迪恩士的依赖。

鸿蒙生态也在快速扩张。

截至六月底,适配应用突破三千家,日活跃设备数突破八百万。

更令人振奋的是,俄罗斯最大电信运营商MTS宣布将在其定制手机中预装鸿蒙OS;印尼教育部启动“数字教室”

项目,采购十万台搭载鸿蒙系统的教育平板。

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