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郝强来到EBL光刻机实验室，指导员工研发7nmEBL光刻机。
项目组某一位技术专家看到董事长到来，眼前一亮，上前跟他汇报：“董事长，您来了。”
“嗯，现在你们碰到什么较难解决的技术问题？”
郝强直入话题。
“我自己这边统计了一下，目前有三个最难解决的难题。”
这位技术专家娓娓道来，“第一点，分辨率与精度。
7nm级别的光刻需要更高的分辨率和精确度，以确保电路的功能和性能，制造更小的特征需要克服物理和化学限制。”
7nm比14nm，也就意味着使用更小的“画笔”
。
设计同样的芯片，所使用的画板（晶圆面积）就更小，即芯片更小，往着更精密的方向发展。
专家看到郝强点头，接着说道：“第二点，图案转移与对准。”
在7nm工艺中，图案转移的准确性至关重要，任何微小的对准误差都可能导致电路功能失效。
精确的对准和图案重叠技术是研发中的难点。
公司在研发EBL光刻机时，已经解决了这个主要问题。
当然，随着技术的提升，要求更高。
原来的14nmEBL光刻机，大部分部件是可以应用在7nmEBL光刻机上面的，但有些零部件需要换成更先进的。
郝强倾听完技术专家的诉说后，耐心地逐一进行讲解。
在一般情况下，技术人员所面临的问题通常不需要他亲自出面解决。
然而，当技术专家们碰到无法克服的难题时，往往是团队也难以应对的复杂问题，这时郝强便不得不亲自出马。
否则，问题的解决将会拖延很长时间，甚至可能导致整个项目的进度受到影响。
集团的员工们都知道董事长工作繁忙，因此很少有人会贸然跑到他的办公室寻求帮助。
然而，郝强此时来到实验室，明显表明了他是为了专门解决技术问题而来。
在实验室的氛围中，浓厚的科研气息弥漫开来，设备的嗡鸣声和团队成员的讨论声交织在一起，创造出一种紧张而充满活力的工作环境。
技术专家刚才看到郝强的身影时，心中不禁生出一丝欣喜。
他原本打算慢慢与团队一道解决这些技术难题，但现在看来，郝强的到来无疑是一个转机。
作为在公司内最受尊敬的领导者，郝强的能力一直是个迷。
他的每一次出手，往往都能快速而有效地找到问题的症结所在，给出最佳的解决方案。
在这个时候，最好的答案似乎恰恰就在郝强身上。
他的到来，无疑为团队注入了强心剂，激发了大家的士气。
仅仅一会儿后，这位技术专家听完郝强的讲解，他就梳理清晰解决方案。
接着，
郝强巡查7EBL光刻机的研发进展。
未来科技集团的光刻机一直以来都笼罩在神秘的面纱之下，外界对其具体类型和技术细节知之甚少。
除了芯片生产部门和研发团队的核心人员之外，集团内其他部门的员工也对这具体技术并不知。
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