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第54章 近轴照明模式(第3页)

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“如此一来,入射光束和输出光束岂不都能实现强分布?”

“如果真能顺利采用近轴照明的话,那么相移掩模和光瞳滤波两种分辨力增强技术就成功在望了!”

……

这个关键的方程,直接为国产光刻机的突破打开一扇天窗,让在场的人看到了曙光。

华光总工看到这样的结果,难掩兴奋:

“真……真没想到……真的有表达近轴照明衍射规律的方程……苏……苏总工,你是怎么做到的?”

所有人都在关注苏晨。

此刻,在他们心目中,苏晨已经是个谜一样的天才!

苏晨:“其实,我也是自学的。”

所有人:???

任中光虽然不懂具体的技术,但,通过观察工程师们的神情,他就已经猜出:苏晨的理论应该是革命性的!

他问华光总工:

“怎么样,用苏总工的理论突破1纳米工艺,有希望吗?”

华光总工:“任董,如果咱们真的掌握了近轴照明模式,那么,照明焦深将提升巨大,光刻分辨力也会大幅度提升,理论上是可以实现1纳米光刻工艺的!

只是,现在还存在一个问题,那就是——近轴照明所采用的衍射元件,整形后的光场分布受入射光场分布的影响较大,对输入光束稳定性不佳的系统,单衍射元件得到的整形光场结果同样会有较大不稳定性……恐怕无法满足光刻照明系统光瞳性能的要求。”

“这个问题有办法解决!”

苏晨清晰地说出了解决办法:“我们可以采用复眼均匀照明原理,来保证光刻照明系统的光瞳性能!”

所有人:“复眼均匀照明原理?!”

这是一个革命性的原理,在场的工程师几乎都没有想到!

“不错!”

苏晨解疑答惑:“所谓复眼均匀照明原理,就是采用微衍射光学元件阵列,将输入的激光光场进行切割,分割成一个个小的子光场,通过微衍射元件的相位调制可以得到固定的光场分布……经过迭代优化,其非均匀性也基本能够控制在5附近,设计理论衍射效率可达90左右,这样完全满足1纳米工艺光刻照明系统设计使用要求!

!”

切割激光光场!

相位调制微衍射元件!

天才的构想——

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