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14纳米的轻舟处理器会更贵！
随着光刻机启动，193纳米波长的深紫外光不断地曝光，底部的移动平台也不断移动，弥补第一次曝光电路图案的不足。
数分钟过去。
晶圆二次曝光结束。
等待片刻以后，林天戴上手套亲自取出晶圆，眯起眼睛仔细观察电路图案，大致看不出图案有重叠，但还需要进行测验。
“加急送去切割测验。”
冯承铭目光看向身旁的工程师，使了个眼色道：“小龙，你拿去切割测验。”
“我？”
那名工程师愣了愣。
他还没实操一遍呢，学不会多重曝光咋办？
冯承铭瞪了他一眼，像似在说你不去，难道要我去啊！
没办法。
那名工程师只好照做。
“好了，也给你们示范了，都自己试试，难度也就集中在晶圆对准上面。”
林天退后一步说道。
冯承铭做为龙芯国际席，自然当仁不让道：“那我来试试。”
然而看似简单的步骤，却让这位院士几度折戟，对准的难度远比想象中难，出现些许偏差，直接损失一大半芯片。
“细心点，慢慢来。”
林天也不着急，反正浪费的不是他的钱。
在冯承铭还在摸索时，一位工程师上前套近乎道：“林席，为什么你对准就没偏差，冯席就……”
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