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就在陈老准备转身离开的时候，老周突然想起了一件事。
“哎？陈老师，打听个事儿。”
老周叫住了他。
“你们江城的七中的带队老师今天没来吗？我看签到表上，他们学校那个叫李东的考生已经进考场了啊。”
陈老停下脚步，转过头说道。
“哦，七中这次没派人来，李东是跟著我们六中过来的，他现在是我们六中英才班的学生。”
闻言，老周愣了一下。
不是你早说你是带李东来的呀，说什么学生学术成果后续，你六中这次的学生有个屁的学术后续呀。
虽然心里在腹誹，但是却是不动声色的点了点头。
“哦是这样呀，陈老师……”
老周看似隨意的补充道。
“林总监今天上午应该来考场这边一趟！
到时候我给他说一声吧。”
陈老见老周这態度，也是心中一阵无语，我江城六中没面子？还要报李东的號？
不过好像是真的没李东有面子，至少现在是。
“那就麻烦周主任了。”
……
此时此刻，考场內。
只剩下最后四十分钟了。
李东坐在座位上，看著试卷的最后一页，眼神很复杂。
他一直觉得自己为了改变命运，在群里披著马甲薅那些科学巨匠的羊毛，已经算是挺不要脸的行为了。
但是，今天看了华轩科技出的这道压轴题，李东才知道，什么叫“资本的厚顏无耻”
！
【某半导体设备企业正在研发28nm工艺节点量產型浸没式光刻系统，核心要採用193nmarf准分子雷射光源，局部浸没式成像架构，在投影物镜最后一片镜片与晶圆表面之间，填充折射率n=1.44的超纯水作为成像介质，以提升系统解析度和成像精度。
系统工作时，晶圆台以匀速直线扫描完成整片晶圆曝光，曝光雷射的能量会在浸没液中產生局部瞬態温升，进而引发成像误差。
】
某半导体企业？到底是哪个半导体企业呢？好难猜呀。
看完这个背景，再看问题。
李东的眼角都开始抽搐了。
【请你设计一套配套的成像误差实时补偿方案，需同时满足以下所有硬性指標：
补偿精度：可將浸没介质折射率波动带来的曝光线宽误差，控制在±1.2nm以內；
响应速度：补偿延迟≤1ms，可適配晶圆台≥1200mms的匀速扫描速度；
抗干扰能力：补偿效果不受浸没液瞬態温度波动、流速扰动、溶解气体含量变化的影响；
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